第一文库网

《溶剂化的稳定作用》

日期:2018/4/27
  • 溶剂化的稳定作用
  • 溶剂化的稳定作用
  • 溶剂化的稳定作用
  • 稳定剂的作用
  • 热稳定剂的作用
  • 光稳定剂的作用
  • 溶剂化作用
  • 乳化增稠稳定剂作用
  • 粘土稳定剂的作用
  • 水质稳定剂的作用
  • 双氧水稳定剂的作用
  • 食品稳定剂的作用
  • 铁离子稳定剂的作用
  • 处方中稳定剂的作用
  • 钙锌稳定剂的作用
  • 溶剂的作用
  • 溶剂化作用的大小比较
  • 溶剂化作用的结果
  • 纤维稳定剂作用
  • 热稳定剂作用
  • 光稳定剂作用
  • 催化剂的稳定性

化学镀镍溶液稳定剂及其作用机理

第28卷第11期2004年11月

机 械 工 程 材 料

Materials for Mechanical Engineering

Vol.28 No.11

Nov.2004

化学镀镍溶液稳定剂及其作用机理

仵亚婷1,汤义武2,沈彬1,刘磊1,胡文彬1

(1.上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海;

2.长沙力元新材料股份有限公司,湖南长沙410100)

摘 要:。

。同时,。

关键词:稳定剂;:A   文章编号:100023738(2004)1120001203

andTheirActionMechanisminElectrolessNickelBath

WUYa2ting1,TANGYi2wu2,SHENBin1,LIULei1,HUWen2bin1

(1.ShanghaiJiaotongUniversity,Shanghai200030,China;2.ChangshaLiyuanNewMaterialsCo.,Ltd,Changsha410100,China)

Abstract:Stabilizersandtheireffectonelectrolessnickelbatharereviewed.Classificationandmechanismofstabilizers

arefocused.Onthebasisofadsorptiontheory,adsorptionabilitiesandinfluencingfactorsarediscussed.Severalmodelsdepictingtheadsorptionofstabilizersareintroduced.Thekeyforresearchanddevelopmentofstabilizersistoimprovethestabilityofelectrolessplatingbath.

Keywords:stabilizer;adsorptiontheory;adsorptionmodel

1 引 言

自里德尔和布伦纳发明化学镀镍以来,已经历了50a的发展。镀速以及镀液稳定性随着镀液工艺及配方的改进有了很大的提高,其中镀液的稳定性是保证高镀速及镀液寿命的前提条件,进而对节省成本有着至关重要的意义[1]。但至今镀液的稳定性还不能令人满意,目前关于稳定剂的研究主要集中在以下几个方面:(1)新型稳定剂的开发;(2)传统稳定剂如硫脲、丙烯基硫脲的机理研究;(3)复合稳定剂的研究[2]。有关稳定剂的机理研究,讨论最多的是稳定剂的吸附理论,即稳定剂吸附在镀液中的胶体微粒表面,占据表面活性中心,从而阻止镍在这些微粒上的沉积。作者就从吸附理论的角度针对各类稳定剂的稳定作用进行介绍。

收稿日期:2003210203;修订日期:2003210215

基金项目:上海市科技发展基金资助项目(0159nm007)作者简介:仵亚婷(1975-),女,陕西富平人,博士研究生。导师:胡文彬教授

2 稳定剂的分类

吸附可分为物理吸附和化学吸附,物理吸附指在静电作用下产生的吸附,而化学吸附是由于吸附剂以某种构型强烈地与表面形成化学键。二者的区别见表1[3]。

从吸附理论出发,稳定剂分为以下三类[4]:

(1)硫、硒、碲、碘、溴等非金属离子的化合物,而且这些化合物中的非金属离子外层电子往往都处于不饱和状态。

(2)金属离子如Pb2+、Cu2+、Cd2+等,这些重金属离子基本属于过渡族元素。

(3)水溶性有机物,包括含双极性的有机阴离子,至少含六个或八个碳原子,有能在某一位置吸附形成亲水膜的功能团,如-COOH、-OH或-SH等基团构成的化合物。一些有机化合物如醇类、酮类、胺类以及羧酸类均属于这一类型。

对于第一类稳定剂,吸附能力参照图1中的IB。将第一类稳定剂和含饱和非金属离子的吸附能力(图1中的IA)作一比较。其中IA有ClO4-、NO3-、

仵亚婷,等:化学镀镍溶液稳定剂及其作用机理

表1 物理吸附和化学吸附的区别

Tab.1 Thedifferencesbetweenphysicaladsorption

andchemicaladsorption

主要特征吸附力

选择性吸附热吸附速度吸附层可逆性

物理吸附

化学吸附

范德华力化学键力无有小近于反应热

快,易平衡,不需要活化能较慢,难平衡,需要活化能

单或多分子层单分子层

可逆不可逆

PF6-、H2PO4-等,IB有I-、Br-、NCS-、IO3-、AsO3-等。可见,IA,而IB

类稳定剂的要比,并随电极符号改变而吸附量持续增加IB阴离子的吸附过程中化学因素比静电作用更为重要,这种化学因素涉及电极表面与阴离子之间的共价力,共价力来源于电极表面金属中的电子轨道共享阴离子的孤对电子。而中性分子硫脲也是由于这种共价力作用吸附的。吸附理论将这种由于共价作用而产生的吸附称为特性吸附[5]。因此可归纳出:IA类稳定剂,其特征原子如Cl、N、P等处于饱和状态,而IB类或者特征原子不饱和

,即使饱和但仍可与金属原子共享孤对电子。这对开发新型稳定及提供了一些依据。

这几种离子含量稍有增加,就会产生滥镀现象,这是因为铁比这几种金属活泼得多,即使在低浓度下,也会被铁置换到试样表面。最好的办法是试样先施镀几分钟待试样表面被镍完全覆盖,再加入这类离子。因静电作用这类重金属离子是很少起到稳定作用的,这已被试验结果证实,特别是Zn2+、Cd2+、Tl+等,因自身电极电位高,,,并不能起到屏蔽活,。作为引发剂的;[7]。

有机化合物作为稳定剂的特点是这些化合物能溶于水,但它们憎水,受到水的排斥。因此可吸附于电极表面,说明它们的溶剂化程度很低,有的甚至是负值,也有些是由于与金属表面的电子相互作用,特别是含有芳环的分子,由于π电子同电极表面的相互作用而更易吸附[8]。

对于同一类稳定剂,其吸附能力有一定的规律可循。而稳定剂的吸附量取决于特征原子的物理化学性质以及被吸附物的性质,阴离子的吸附能力与不饱和原子的核外电子有关。据此,文献[9]得出如下规律:在汞电极上,某些无机阴离子或阳离子的吸附量随离子半径增大而增大。由此,总结出各类稳

-定剂的稳定效果排序为:Cl-

------S2O23;NCOνNCS;ClO3

3 影响稳定剂吸附的因素

稳定剂的吸附除了与本身性质及试样表面有关外,也与工艺条件如pH值、温度密切相关。pH值是支配吸附程度的基本变量,从低pH值具有微不足道的吸附开始,随pH值增加将产生一个1~2pH单位的狭窄范围,在此范围内吸附作用几乎是从零增加到100%,进一步增加pH值,结果是逐渐解吸,对此文献[10]也建立了模型进行说明。目前,针对化学镀液各类稳定剂受pH值的影响规律还没有进行过详细研究。温度对稳定剂的吸附影响很大而且也很复杂,根据Clausius2Clapeyron方程式[11],吸附焓的改变和温度的关系为:

=Rd(1/T)

ΔH可以从lnC对1/T作图求得。当吸附为式中 

放热过程时,吸附随温度上升而减少,如果吸附为吸热过程,吸附随温度上升而增加。这就引出一个问题,目前用的氯化钯滴定法来测稳定剂的稳定效果

图1 IA和IB类离子随电极表面带电量其吸附量变化特点

Fig.1 AdsorptionchangesofIAandIBwith

surfaceelectricalpotential

对于重金属离子,由于试样在溶液中呈弱负电位,首先这些离子会以静电作用吸附在试样表面,但这种吸附是极不稳定的,尤其是在温度高的时候,所以由这种静电吸附产生的稳定效果并不理想。事实上,对于像Pb2+、Sn2+、Sb2+这类离子,它们的电极电位均比镍离子的低[6],在标准条件下,这些离子会被试样上的镍还原到试样表面。在镀液中由于这些离子的浓度很低,通过能斯特方程可以计算出它们各自在镀液中的电极电位。结果表明,这些离子在低浓度下很难被镍还原。另外,如果用碳钢作基底,

仵亚婷,等:化学镀镍溶液稳定剂及其作用机理

是比较片面的,因为如果某一稳定剂在吸附过程中是吸热的,那么该稳定剂在60℃的稳定效果并不表示它在施镀温度时的稳定效果,所以这种测试方法有待于进一步改进。

是扩散到试样表面的稳定剂减去由于镍埋覆的稳定剂,而在线性扩散和非线性扩散机理作用下,稳定剂扩散速度Rd和其埋覆速度Rb之间通过相互竞争维持试样表面吸附密度的平衡,从而达到稳定效果。

该模型利用扩散机理很好地说明了稳定剂的稳定机制,而且也说明了稳定剂在施镀过程中是消耗的。,如果稳定剂,,如果铅离子局部浓。Sn2+、Sb2+也是同样。

4 稳定剂特性吸附对镀层表面微观结构的

影响

镀液中添加稳定剂,宏观上可以看到镀液长时

间使用仍可保持澄清,镀速可能会有所变化。而稳响也是一个值得关注的问题,;模型[12]。

到双电层的电极电位。已经证实,化学镀镍的反应机理和电化学有关,那么这对电极电位的影响势必会影响化学镀镍氧化还原反应。

[13]

6 展 望

目前,关于稳定剂的研究在不断深入,但是,如何能找到一些稳定性能很好而且对镀层性能无害甚至能提高镀层性能的稳定剂是一个难点。研究者们也在致力于稳定剂的机理研究,试图找出或合成一种新型的稳定剂。另外,对稳定剂的研究也逐步进入量化阶段,这也对进一步研究稳定剂提供了有利的工具。总之,关于稳定剂的研究仍是今后镀液研究的一个热点,也是镀液稳定性得以提高的关键。

参考文献:

[1] 姜晓霞.化学镀镍理论与实践[M].北京:科学出版社,2000.[2] 胡文彬,刘磊,仵亚婷.难镀基材化学镀镍技术[M].北京:化

5 描述稳定剂的模型

5.1 GCSG模型

XinX等用GCSG(Gouy2Chapman2Stern2Gra2

hame)模型来描述温度对稳定剂半胱氨酸吸附量的

[14]

影响,该模型是Gouy和Chapman的扩散层模型和Helmholtz的紧密层模型的结合。由Stern首先提出,后经Grahame修正[15],表达式为:

1/2

()

n=n0-(52V/5x2)exp-x=xkT式中 n为吸附在固液界面的分子数;n0为镀液中的分子数;V(x)为距离界面x处的平均电位,x0是V(x)最小值处。通过该模型可以理论计算稳定剂的吸附量随温度的变化规律。

该模型用于描述温度的影响简单直观,但将每一种稳定剂对双电层电位的影响视为同一值过于简略,因为前述曾介绍过,每一种稳定剂对界面双电层电位的影响肯定是不同的,而且它们随着温度的升高其吸附量的变化规律是不同的,有的稳定剂吸附过程可能是吸热的,有的也许是放热的,视稳定剂种类和界面性质而定。5.2 扩散模型

该模型利用扩散机理,即如果圆周面的半径远远大于其厚度时(rµδ),稳定剂的扩散为线性扩散,反之则为非线性扩散。ZhangS等提出Pb2+作为稳定剂的模型[16]。模型说明稳定剂吸附的净结果

学工业出版社,2003.

[3] AnsonFC.电化学和电分析化学[M].黄慰曾,编译.北京:北

京大学出版社,1983.

[4] PayneR.FreeEnergyofadsorptionofsomeorganicaddicivesasa

functionofthemolarfreeenergyofdissolution[J].ChemandInterfa2cialElectrochem,1973,41(6).

[5] 张祖训,汪尔康.电化学原理和方法[M].北京:科学出版社,

1999.

[6] MalloryGO,HajduJB.ElectrolessPlating:FundamentalsandAp2

plications[M].Florida,USA:AmericanElectroplatersandSurfaceFinishersSoc,1990.

[7] AndersonMA,RubinAlanJ.Adsorptionofinorganicsatsolid2liquid

interfaces[M].Michigan,USA:AnnArborSciencePublishersInc,1981.

[8] GasserRPH.金属的化学吸附和催化作用导论[M].赵壁英,

吴念祖,译.北京:北京大学出版社,1991.

[9] ParfittGD,RochesterCH.Adsorptionfromsolutionatthesolid/liq2

uidInterface[M].NewYork:AcademicPress,1983.

[10] DuongDDo.Adsorptionanalysis:equilibriaandkinetics.London:

ImperialCollegePress,1998.

[11] NicholsonD,ParsonageNG.Computersimulationandthestatistical

mechanicsofadsorption[M].NewYork:AcademicPressInc,1982.

(下转第9页)

李宁,等:热处理工艺对Fe214.04Mn20.22C阻尼合金组织和性能的影响

图3 合金不同状态的SEM形貌

Fig.3 SEMmorphologyofthealloysolutiontreatedatdifferenttemperatures

又是由ε马氏体的数量和厚度共同决定的。面面积反而减少了,使阻尼性能降低。

参考文献:

[1] YoungKookLEE,JoongHwanJUN,ChongSoolCHOI.Effectofε

martensitecontentonthedampingcapacityofFe217Mnalloy[J].ScriptaMaterialia,1996,35(7):39-44.

[2] JeeKK,JangWY,BaikSH,etal.DampingcapacityinFe2Mn

basealloy[J].ScriptaMaterialia,1997,37(5):943-948.

[3] JeeKK,ITOK,ShinMC.DampingcapacityinFe227Mn23.5Sial2

loy[J].ISIJInternational,1994,34(4):912-916.

[4] JeeKK,JangWY,BaikSH,etal.Dampingmechanismandappli2

cationofFe2Mnbasealloy[J].MaterialsScienceandEngineering,1999,38(1):538-542.

4 结 论

(1)冷拉态的Fe214.04Mn20.22C合金经适当温

度热处理后,其阻尼性能可大幅度提高。其阻尼性能随热处理温度的升高而增大,在1000℃时,阻尼

性能达到最大值。

(2)Fe214.04Mn20.22C合金在热处理时,其阻尼性能取决于板条状马氏体的数量,板条状马氏体数量越多,阻尼性能越好。

(3)Fe214.04Mn20.22C合金在1200℃固溶处理时,虽然马氏体变数量更多,但粗化严重,γ/ε相界

(上接第3页)

[12] 吴辉煌.电极学原理[M].厦门:厦门大学出版社,1991.[13] 段世铎,谭逸玲.界面化学[M].北京:高等教育出版社,

1990.

[14] XinX,HongL.Modelingthestabilityofelectrolessplatingbath2dif2

fusionofnickelcolloidalparticlesfromtheplatingfrontier[J].Jour2nalofColloidandInterfaceScience,2003,262(2):89-96.[15] WilliamJ,Hunt,CharlesFZukoski.Cosistentsurfacepotentials

frombulksuspensionproperties[J].JournalofColloidandInferfaceScience,1977,195(8):32-41.

[16] ZhangS,BatesJDe.Stabilizerconcentrationandlocalenvironment:

theireffectonelectrolessnickelplatingofPCBmicropads[J].JournaloftheElectrochemicalSociety,1999,146(8):2870-2875.

(上接第6页)

[4] 王卫国.Fe2Cr2Al2Si合金阻尼性能及阻尼机制的研究[D].成

都:中国核动力研究设计院,1998.

[5] 钟文定.铁磁学[W].北京:科学出版社,2000.

[6] HakaruMasumoto.Dampingcapacityandpittingcorrosionresistanceof

Fe2Mo2Cralloys[J].TranscriptionsoftheJapanInstituteofMetals,1984,25(12):891-899.

[7] AzcoitiaCKarimi.Asoftmagneticmaterialsforoptimizedvibration

control[J].MaterialsScienceForum,1997,373:765-768.

乳化剂——可食用的稳定剂

鑫湘食品添加剂经营进口和国产食品添加剂、食品原料辅料和香精香料

乳化剂——可食用的稳定剂

(鑫湘食品添加剂)

工业上用到的乳化剂在食品行业有管件的作用,乳化剂可以将水和油吸附在面团里,降低了油和水的相互张力,在制作面包的时候可以降低面团的比重,提高面包的体积。

乳化剂是一种稳定剂,其作用有很多,乳化剂可以在分散质中形成小液滴相互凝结的现象,能够形成比较稳定的乳浊液,乳化剂在很多工业上都有应用,在生化上有很多产品都是依靠乳化剂的凝聚来形成的,可以说乳化剂有很大的作用,有人就会问到乳化剂都有哪些功能和特点?下面就讲一下乳化剂的有关知识。

乳化剂在食品行业应用的比较多,在食品行业上的主要功能是:

可以与淀粉相互结合,能够防止老化,改善了产品的质构。与蛋白质结合可以增强面团的抗力和韧性,使蛋白质具有弹性。与糖果相互结合,可以在糖果表面形成一层保护膜,可以防止空气和水分的使糖果潮化,可以降低糖果的粘度,使糖果不会轻易的融化。还可以提高淀粉和蛋白质的润滑性,降低固体和液体的张力,使液体能够很快的扩散到表面,提高润滑的效果。还具有稳定泡沫的作用,可以形成气溶的胶体,改善产品的品质和多孔性。

工业上沥青在运输的过程中会有发泡的现象,这与乳化剂的特性有关,太多的泡沫会影响沥青的运输和储存,可以再沥青中加入消泡剂,这样就会降低泡沫的生成。

乳化剂在使用的时候要注意HLB的值,相差值不能太高,否则就会达不到最好的效果。乳化剂可以溶于水,可以再搅拌下加入油。

在工业是哪个使用乳化剂具有很强的去污能力,乳化剂是一种表面是一种比较活性的物质,可以溶于水,可以与将油和油脂分解成细小的颗粒从面料的表面驱赶下来。融入在水里就可以将将油和油脂通过稀释去除油脂。

化学镀中稳定剂及加速剂的作用机理

化学镀中稳定剂及加速剂的作用机理 1、化学镀的稳定简介

化学镀中最主要的一个系列是有自催化能力的还原型化学镀液。当反应速度较快时,镀层质量变差,会出现粗糙镀层甚至粉末状镀层;同时,由于自催化一旦促发即会持续下去,甚至会因剧烈的还原反应而失去控制,导致镀液迅速失去作用。因此,需要要加入稳定剂以控制其反应速度。

稳定剂的作用是控制反应速度和抑制镀液的自发分解,从而使化学镀能有序地进行。不同的化学镀液会用到不同的稳定剂,有时还需要用到几种稳定剂以进到联合控制的作用。常用的稳定剂有以下几类。

①元素周期表中第VI主族元素的化合物:一些硫的无机物或有机物,如硫代硫酸盐、硫氰酸盐、硫脲及其衍生物、疏基苯并噻唑、黄原酸酯等。

②重金属离子:如铅、锡、锑、镉、锌、铋、钛等金属二价、三价离子。

③水溶性有机物:有些含有双极性的有机阴离子,至少含有6个或8个碳原子并能在某一定位置吸附形成亲水膜功能团的有机物,如不饱和脂肪马来酸、苯亚甲基丁二酸、3-S-异硫脲鎓盐的丙烷酸盐、邻苯二甲酸酐的衍生物等。

④某些含氧化合物:如AsO2-、IO3-、BrO3-、NO2-、MoO42-等,双氧水也属于这一类。

2、化学镀稳定剂的作用机理

化学镀稳定剂的作用机理没有统一的模式,而是因稳定剂的类别不同而有所不同,但也有着一些共同点,这就是稳定剂都是通过在表面吸附而影响金属离子的还原过程的。也就是稳定剂的添加量一般都很少的原因,因为它们只是通过电极的双电层起作用的,过多的量反而会破坏化学镀的平衡。

有机类稳定剂的作用可以认为这类稳定剂具有的表面吸附作用和影响电子交换的作用,通过吸附而改变金属离子的还原过程。因此,在一定添加量范围内,有机稳定剂有时还会有促进金属离子沉积的作用。而含氧化合物则是通过改变双电层结构而增加作为阴离子的稳定剂在表面的吸附,从而影响金属离子还原的过程。重金属离子也是通过在具催化活性表面的吸附来影响还原过程。

总之,化学镀稳定剂是通过在反应表面吸附而阻滞金属离子的还原过程来起到稳定镀液的作用。

化学镀加速剂是指在可控制的条件下提高镀速的添加剂。因此加速剂也叫做促进剂。以次亚磷酸盐为还原剂的化学镀,就常用到加速剂。化学镀镍中的许多络合剂也兼有加速剂的作用。常用的加速剂有以下几种。

(1).未被取代的短链和脂肪族二羧酸根阴离子。属于这一类的有丙二酸、丁二酸、戊二酸和已二酸等。常用的是丁二酸。

(2).短链饱和氨基酸。这是较为优良的加速剂,最典型的是氨基乙酸,它兼有缓冲剂、络合剂和加速剂三种作用。

(3).短链饱和脂肪酸。从醋酸到戊酸都属于这一类,其中以丙酸最为常用,但效果没有丁二酸和氨基乙酸好,优点是成本最低。

(4).无机离子加速剂。目前在化学镀镍中只有氟离子具有加速作用,但用量也要严格控制,用量大时不仅减少镀速,对镀液稳定性也会有影响。

化学镀中稳定剂及加速剂的作用机理

化学镀中稳定剂及加速剂的作用机理

现代电镀网讯:

1、化学镀的稳定简介

化学镀中最主要的一个系列是有自催化能力的还原型化学镀液。当反应速度较快时,镀层质量变差,会出现粗糙镀层甚至粉末状镀层;同时,由于自催化一旦促发即会持续下去,甚至会因剧烈的还原反应而失去控制,导致镀液迅速失去作用。因此,需要要加入稳定剂以控制其反应速度。

稳定剂的作用是控制反应速度和抑制镀液的自发分解,从而使化学镀能有序地进行。不同的化学镀液会用到不同的稳定剂,有时还需要用到几种稳定剂以进到联合控制的作用。常用的稳定剂有以下几类。

①元素周期表中第VI主族元素的化合物:一些硫的无机物或有机物,如硫代硫酸盐、硫氰酸盐、硫脲及其衍生物、疏基苯并噻唑、黄原酸酯等。

②重金属离子:如铅、锡、锑、镉、锌、铋、钛等金属二价、三价离子。 ③水溶性有机物:有些含有双极性的有机阴离子,至少含有6个或8个碳原子并能在某一定位置吸附形成亲水膜功能团的有机物,如不饱和脂肪马来酸、苯亚甲基丁二酸、3-S-异硫脲鎓盐的丙烷酸盐、邻苯二甲酸酐的衍生物等。

④某些含氧化合物:如AsO2-、IO3-、BrO3-、NO2-、MoO42-等,双氧水也属于这一类。

2、化学镀稳定剂的作用机理

化学镀稳定剂的作用机理没有统一的模式,而是因稳定剂的类别不同而有所不同,但也有着一些共同点,这就是稳定剂都是通过在表面吸附而影响金属离子的还原过程的。也就是稳定剂的添加量一般都很少的原因,因为它们只是通过电极的双电层起作用的,过多的量反而会破坏化学镀的平衡。

有机类稳定剂的作用可以认为这类稳定剂具有的表面吸附作用和影响电子交换的作用,通过吸附而改变金属离子的还原过程。因此,在一定添加量范围内,有机稳定剂有时还会有促进金属离子沉积的作用。而含氧化合物则是通过改变双电层结构而增加作为阴离子的稳定剂在表面的吸附,从而影响金属离子还原的过程。重金属离子也是通过在具催化活性表面的吸附来影响还原过程。

总之,化学镀稳定剂是通过在反应表面吸附而阻滞金属离子的还原过程来起到稳定镀液的作用。

化学镀加速剂是指在可控制的条件下提高镀速的添加剂。因此加速剂也叫做促进剂。以次亚磷酸盐为还原剂的化学镀,就常用到加速剂。化学镀镍中的许多络合剂也兼有加速剂的作用。常用的加速剂有以下几种。

(1).未被取代的短链和脂肪族二羧酸根阴离子。属于这一类的有丙二酸、丁二酸、戊二酸和已二酸等。常用的是丁二酸。

(2).短链饱和氨基酸。这是较为优良的加速剂,最典型的是氨基乙酸,它兼有缓冲剂、络合剂和加速剂三种作用。

(3).短链饱和脂肪酸。从醋酸到戊酸都属于这一类,其中以丙酸最为常用,但效果没有丁二酸和氨基乙酸好,优点是成本最低。

(4).无机离子加速剂。目前在化学镀镍中只有氟离子具有加速作用,但用量也要严格控制,用量大时不仅减少镀速,对镀液稳定性也会有影响。

稳定剂的作用方式介绍

热稳定剂基本上是以化学方式起作用,能和氯化氢气体结合并抑制氯化氢进一步自动催化聚氯乙烯分解的物质。一般与聚氯乙烯能混溶的有机酸金属盐,可作为热稳定剂。

光稳定剂也是以化学方式使聚氯乙烯因光的作用而分解放出的氯化氢气体不产生有害影响,但也有一些光稳定剂则不然,例如紫外线吸收剂就是单纯以物理方式使能量大而波长短的紫外线变为波长长而能量小的光线,因而使太阳光中紫外线部分对薄膜的破坏作用减小。

实际上,使用单一的稳定剂常不能满足聚氯乙烯薄膜生产的要求,大多数使用几种稳定剂组成的稳定剂系统。这种稳定剂系统可随聚氯乙烯薄膜制造条件和应用范围的不同而异。整个系统中的各种稳定剂相互起补充作用,从而使整个系统产生较高的稳定效果,这即所谓协同作用或协同效应,例如液体钡一镉一锌复合稳定剂就具有较好的协同效应。

>> 下一页

冀ICP备13008870 粤公网安备44023202000125号站点地图